[ sulge aken ]
| Elulookirjeldus (CV) | ||
| 1. | Eesnimi | Indrek |
| 2. | Perekonnanimi | Jõgi |
| 3. | Töökoht | Tartu Ülikool, Eksperimentaalfüüsika ja tehnoloogia instituut |
| 4. | Ametikoht | doktorant |
| 5. | Sünniaeg | 26.05.1980 (päev.kuu.aasta) |
| 6. | Haridus | kõrgem |
| 7. | Teenistuskäik | --- |
| 8. | Teaduskraad | magister |
| 9. | Teaduskraadi välja andnud asutus, aasta |
TÜ, 2003 |
| 10. | Tunnustused | --- |
| 11. | Teadusorganisatsiooniline ja –administratiivne tegevus |
--- |
| 12. | Juhendamisel kaitstud väitekirjad |
|
| 13. | Teadustöö põhisuunad | Aatomkiht-sadestatud TiO2 kilede juhtivusmehhanism ja karakteriseerimine |
| 14. | Jooksvad grandid | --- |
| 15. | Teaduspublikatsioonid |
Jõgi I., Aarik J., Laan M., Jun Lu, Kukli K., Käämbre H., Sajavaara T., Uustare T., Effect of preparation conditions on properties of ALD-grown TiO2 films in Mo/TiO2/Al stacks, Thin Solid Films, 2005, presented Jõgi I., Aarik J., Laan M., Jun Lu, Kukli K., Käämbre H., Sajavaara T., Uustare T., The effect of precursors to the structure and conductivity of atomic layer deposited TiO2 films, Proc. EUROCVD-15, Bochum, Germany Sept. 4th- 9th, 2005, accepted Aarik J., Bichevin V., Jõgi I., Käämbre H., Laan M., Sammelselg V., Fowler- Nordheim tunnelling in Au-TiO2-Ag film structures, Centr. Eur. J. Phys. 2004, 2, 147-159. Jõgi I., Aarik J., Bichevin V., Käämbre H., Laan M., Sammelselg V., Fowler-Nordheim tunnelling in TiO2 films grown by atomic layer deposition on gold substrates; Proc. Estonian Acad. Sci. Phys. Math. 2004, 53, 226-236 |
viimati muudetud: 03.08.2005
| Curriculum Vitae (CV) | ||
| 1. | First Name | Indrek |
| 2. | Surname | Jõgi |
| 3. | Institution | University of Tartu, Institute of experimental Physics and Technology |
| 4. | Position | PhD student |
| 5. | Date of birth | 26.05.1980 (day.month.year) |
| 6. | Education | Higher |
| 7. | Research and professional experience |
--- |
| 8. | Academic degree | MSc |
| 9. | Dates and sites of earning the degrees |
University of Tartu, 2003 |
| 10. | Honours/awards | --- |
| 11. | Research-administrative experience |
--- |
| 12. | Supervised dissertations | |
| 13. | Current research program | Conduction mechanisms in ALD grown TiO2 films and characterisation of TiO2 films |
| 14. | Current grant funding | --- |
| 15. | List of most important publications |
Jõgi I., Aarik J., Laan M., Jun Lu, Kukli K., Käämbre H., Sajavaara T., Uustare T., Effect of preparation conditions on properties of ALD-grown TiO2 films in Mo/TiO2/Al stacks, Thin Solid Films, 2005, presented Jõgi I., Aarik J., Laan M., Jun Lu, Kukli K., Käämbre H., Sajavaara T., Uustare T., The effect of precursors to the structure and conductivity of atomic layer deposited TiO2 films, Proc. EUROCVD-15, Bochum, Germany Sept. 4th- 9th, 2005, accepted Aarik J., Bichevin V., Jõgi I., Käämbre H., Laan M., Sammelselg V., Fowler- Nordheim tunnelling in Au-TiO2-Ag film structures, Centr. Eur. J. Phys. 2004, 2, 147-159. Jõgi I., Aarik J., Bichevin V., Käämbre H., Laan M., Sammelselg V., Fowler-Nordheim tunnelling in TiO2 films grown by atomic layer deposition on gold substrates; Proc. Estonian Acad. Sci. Phys. Math. 2004, 53, 226-236 |
last updated: 03.08.2005
[ sulge aken ]